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光刻机，这门半导体制造的精湛技术，扮演着不可或缺的角色。ASML，这家荷兰的重量级公司，以其独步全球的极紫外光刻技术傲视群雄，垄断了这一领域。EUV光刻机，其能够塑造出更为微小、高速、能效卓越的芯片，已然成为半导体领域未来发展的关键。
然而，就在这个市场上，风云变幻。中美之间的半导体纷争不断升级，这令ASML和其他荷兰光刻机供应商也不得不面临前所未有的压力与挑战。不久前，ASML中国区总裁宣布，他们将提供超过200个职位，涵盖光刻机、计算光刻和测量等多个领域，这意味着他们正全力以赴，为中国市场提供全面的解决方案。同时，同为ASML的上游供应商，荷兰的半导体巨头KMWE也在国内布局，计划兴建一座新工厂，专为中国市场提供半导体产品。
而KMWE的主管Edward Voncken在外媒采访中则提到，他们的决策受到中美芯片争端的影响。由于美国对半导体相关技术的出口限制，KMWE等供应商受到了一定的冲击。此外，中国企业和政府已达成共识，加大本土半导体设备和零件的使用，以支持国内半导体产业的发展。因此，为了避免技术出口限制，满足国内市场的需求，KMWE决定在中国建厂。
这些调整不仅在市场上引发了波澜，也引起了美国方面的不满和反应。美国商务部发言人表示，他们将继续与盟友合作，实施对中国的出口管制，以防止中国利用敏感技术威胁国际安全。而在此背景下，美国正积极推动日本等国家加入其限制措施，阻止中国获得先进的半导体设备。然而，日本方面对此持谨慎态度，虽然近期在一定程度上配合了美国的限制策略，但强调这并不是针对特定国家。
